反渗透膜常用的清洗方法及药剂配方（下）

四、清洗反渗透膜元件的一般步骤

1、用泵将干净、无游离氯的反渗透产品水从清洗箱（或相应水源）打入压力容器中并排放几分钟。

2、用洁净的水在清洗箱中配制清洗液。

3、将清洗液在压力容器中循环1小时或预先设定的时间，对于8英寸或8.5英寸压力容器时，流速为35~40加仑/分钟 （133~151升/分钟 ） ，对于6英寸压力容器流速为15~20加仑/分钟 （57~76升/分钟 ） ，对于4英寸压力容器流速为9~10加仑/分钟 （34~38升/分钟 ）

4、清洗完成以后，排净清洗箱并进行冲洗，然后向清洗箱中充满干净的水以备下一步冲洗。

5、用泵将干净、无游离氯的水从清洗箱（或相应水源）打入压力容器中并排放几分钟。

6、在冲洗反渗透系统后，在排放阀打开状态下运行反渗透系统，直到产品水清洁、无泡沫或无清洗剂（通常需15~30分钟 ） 。

五、反渗透膜污染特征及处理方法

1、细菌污染

一般特征：脱盐率可能降低、系统压降明显增加、系统产水量明显降低；

清洗方法：pH值10，2%三聚磷酸钠溶液，0.8%EDTA四钠（严重时更换为0.25%的Na-DDBS)，温度40℃；0.1%NaOH和0.03%SDS，pH=11.5。

2、硫酸钙污染

一般特征：脱盐率明显降低、系统压降稍有或适度增加、系统产水量稍有降低；

清洗方法：pH值10，2%三聚磷酸钠溶液，0.8%EDTA四钠（严重时更换为0.25%的Na-DDBS)，温度40℃；有时也可用pH小于10的NaOH水溶液清洗。

3、有机物沉淀

一般特征：脱盐率可能降低、系统压降逐渐升高、系统产水量逐渐降低；

清洗方法：pH值10，2%三聚磷酸钠溶液，0.8%EDTA四钠（严重时更换为0.25%的Na-DDBS)，温度40℃。

4、氧化物/氢氧化物（铁、镍、铜）污染

一般特征： 脱盐率明显下降、系统压降明显升高、系统产水量明显降低。

清洗方法：氨水调pH值4，2%的柠檬酸溶液，温度40℃，有时也可以用pH2-3（0.5%）的盐酸水溶液清洗。

5、无机盐沉淀物污染

一般特征： 脱盐率明显下降、系统压降增加、系统产水量稍降

清洗方法：2%柠檬酸溶液，氨水调pH值4，温度40℃，也可用pH2-3（0.5%）的盐酸水溶液清洗。

6、各种胶体（铁、有机物及硅胶体）污染

一般特征： 脱盐率稍有将低、系统压降稍有上升、系统产水量逐渐减少。

清洗方法：硫酸调pH值10，0.2%三聚磷酸钠STTP溶液，温度40℃；有时也可以用pH小于10的NaOH水溶液清洗。

六、反渗透膜清洗几种常用配方

清洗配方一：

1%-2%柠檬酸溶液或0.4%HCl溶液，适用于铁污染及碳酸盐结晶污堵；

清洗配方二：

0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，适用于清洗由有机物及活性生物引起的膜组件的污染；

清洗配方三：

0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，适用于清洗由谷氨酸发酵液引起的膜组件的污染；

清洗配方四：

1%甲醛溶液，适用于细菌污染的超滤；

清洗配方五：

HNO3的0.5%水溶液，适用于电泳漆处理过程中磷酸铅对膜组件造成的污堵（此清洗必须在其他常规化学清洗之后进行。）；

清洗配方六：

20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用于胶体污染物造成的膜污染；

清洗配方七：

9%的十二烷基苯磺酸钠、9%的表面活性剂、0.4%的NaOH、0.15的无水碳酸钠、11%的磷酸钠、10%的硅酸钠，清洗时需注意pH的控制，有些膜不适用于高pH清洗液的清洗，要慎重选择，主要用于清洗含油废水所造成的膜污染；

清洗配方八：

3%的H3PO4、0.5%的乙二胺四乙酸二钠、0.5%的LBOW专用清洗剂，主要用于清洗蛋白质和油脂污染物造成的污染。

清洗配方九：

20%的H2SO4，主要用于硅垢结晶造成的污染。

RO膜元件是反渗透设备系统中最重要的部分，其日常维护的好坏直接影响到系统出水水质的好坏，这里对于反渗透膜的清洗方法加以概述，系统说明反渗透膜在运行中可能出现的污染物以及相对应的清洗方法。